Источник, фото: GlobalSib
В Институт сильноточной электроники СО РАН (Томск) в ближайшие дни прибудет иностранная делегация ученых и специалистов из крупного европейского научно-исследовательского учреждения — Национального центра ядерных исследований Польши.
Целью визита является тестирование и прием оборудования, изготовленного по заказу поляков ИСЭ СО РАН и предприятием «Микросплав», входящей в состав кластера «Новые материалы и наукоемкие технологии» инновационных компаний Томского научного центра СО РАН. Институт сильноточной электроники СО РАН является признанным мировым лидером в сфере разработки сложнейшего электрофизического оборудования, предназначенного как для фундаментальных исследований, так и для использования в различных высокотехнологичных отраслях промышленности, сообщили в ТНЦ СО РАН.
Для Польского ядерного центра впервые в мире изготовлена установка, в который совмещены две уникальные возможности — имплантации полупроводниковых материалов многозарядными ионами и отжига дефектов, возникающих в этих материалах при имплантации с помощью импульсного сильноточного электронного пучка.
Оборудование предназначено для получения полупроводниковых материалов, обладающих качественно новыми свойствами, которые будут использоваться в области микроэлектроники.
Польские специалисты привезут с собой ряд образцов: первые эксперименты будут проведены на томской земле.